和100L反應釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置

更新時間：2025-11-12

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產(chǎn)品特點：和100L反應釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

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和100L反應釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置的詳細資料：

品牌	長城科工貿(mào)

和100L反應釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

l能提供熱源或冷源的循環(huán)裝置。工作范圍廣，可用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源。

l溫度控制范圍寬：-80℃~200℃。

l預冷系統(tǒng)、制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)可聯(lián)合使用。

l快速加熱或冷卻。

l降溫速率大，可強制快速降溫。

l全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化；低溫下不易受環(huán)境條件影響，可延長導熱流體的使用壽命。

l制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。

l液位顯示功能，實時監(jiān)視液位，避免缺少載熱流體。

l超溫保護、漏電保護、過電流保護等多種保護功能，充分保證使用者及設備安全。

l根據(jù)用戶需求，可提供風冷、水冷兩種預冷方式機型

和100L反應釜配套使用密閉制冷加熱循環(huán)裝置，典型應用：

●化工、制藥和生物領域中雙層及三層反應釜的溫度控制。

●材料測試中的溫度控制。

●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。

●工藝過程中的溫度變化模擬控制。

●恒溫控制系統(tǒng)。

●半導體設備的溫度控制。

●熱測試平臺的溫度控制。